Volfrám -porlasztási cél
video

Volfrám -porlasztási cél

1. márka: xzy
2. katalógus: volfrámtermék
3. Anyag: Tungfen
4. Tisztítás: nagyobb vagy egyenlő 99,95%
5. sűrűség: 19,3 g\/cm³
6. alak: Síkcél, forgó cél, porlasztó cél, négyzet alakú cél, csőcél, testreszabott cél, szabálytalan alakú.
7. specifikáció: Testreszabott, céltömeg, amely 300 kg\/db -nál kevesebb vagy egyenlő.
8. felület: hidegen hengerelt felület, kémiai tisztított felület, csiszolt felület
9. Alkalmazás: Magnetron porlasztó bevonat
10. szabvány: ASTM B760, GB\/T 3875-83
11. Származási hely: Luoyang, Kína.
A szálláslekérdezés elküldése
A termék bemutatása

 

 

Bevezetés

 

 

A volfrám-porlasztási cél a porlasztási folyamatban használt nagy tisztaságú anyagok, egy fizikai gőzlerakódási (PVD) módszer, amelyet a vékony fóliák felületeire helyezésére alkalmaznak. A Tungsten egy fém, amely a magas olvadáspontjáról (kb. 3422 fokos), a keménységről és a kiváló elektromos vezetőképességről ismert, így ideális anyag a célok porlasztásához a különféle iparágakban, például az elektronika, az optika és a félvezető gyártáshoz.

 

Jellemzők

 

 

Kiváló, magas hőmérsékleti ellenállás
A volfrám olvadáspontja akár 3422 fok is van, így kiváló magas hőmérsékletű ellenállást eredményez. Ezenkívül a porlasztási folyamat során a volfrámcél ellenáll a nagy energiájú ionok bombázásának, és nem könnyen deformálható vagy lebontható. Ez lehetővé teszi a volfrámcél számára, hogy stabilan működjön a magas hőmérsékleten és a nagy energiájú környezetben.

 

Korrózióállóság
A volfrám anyagok jó oxidációval és korrózióállósággal rendelkeznek. Magas hőmérsékleten vagy kémiai környezetben a volfrám-porlasztó célpont hatékonyan ellenáll az oxidációnak, a sav- és lúgos korróziónak, biztosítva, hogy a cél fenntartja a jó teljesítményt a többszörös porlasztási folyamatok során.

 

Széles körű felhasználási tartomány
Termékeinket széles körben használják félvezetőkben, optoelektronikában, mágneses anyagokban és más területeken. A félvezető iparban az integrált áramkörök fémezési folyamatában volfrám vékony fóliákat használnak. Az optikai területen a volfrám vékony fóliákat reflektorok vagy bevonó anyagok gyártására használják.

 

Termék kémiai összetétel

 

 

Volfrám cél kémiai összetétel

W

Tartalom

(%)

Szennyezősági tartalom (ppm)

Ti

Na

C

Kb.

Mg

SI

Al

Mint

FE

Ni

PB

P

CU

/

/

Nagyobb vagy egyenlő 99,95%

Kevesebb vagy egyenlő 10 ppm

Kevesebb vagy egyenlő 5 -nél

ppm

Kevesebb vagy egyenlő 20 -nál

ppm

Kevesebb vagy egyenlő 10 -nél

ppm

Kevesebb vagy egyenlő, mint 7ppm

Kevesebb vagy egyenlő 10 -nél

ppm

Kevesebb vagy egyenlő 5 -nél

ppm

Kevesebb vagy egyenlő 10 -nél

ppm

Kevesebb vagy egyenlő 10 -nél

ppm

Kevesebb vagy egyenlő, mint 6

ppm

Kevesebb vagy egyenlő 1 -nél

ppm

Kevesebb vagy egyenlő 8 -nál

ppm

Kevesebb vagy egyenlő 5 -nél

ppm

/

/

 

Termékteljesítmény -paraméterek

 

 

Tungsten porlasztási célteljesítmény -paraméterek

Minta mérete

12 mm × 80 mm × 100 mm

Tisztaság

Nagyobb vagy egyenlő 99,95% (3N5)

Kristályszerkezet

Testközpontú köbméter (BCC)

Szemcseméret

43μm

Sűrűség

19,25 g\/cm3 (csípő)

Olvadáspont

3410 fok (+ 20 fok)

Forráspont

5900 fok

Hővezető képesség

173 W/(m·K)

Elektromos vezetőképesség

18.3×10-6 S/m

Termikus tágulási együttható

4.5×10-6/K-1

Keménység

HV5: 280-310

Felszíni befejezés

RA kevesebb vagy egyenlő, mint 0. 4μm

 

 

 

Terméktermelési folyamat

 

 

Tungsten Sputtering Target Production Process Flow

 

Népszerű tags: Tungsten porlasztási cél, Kína Tungfen Sputtering Célgyártók, Szállítók, Gyár, 2 volfrám volfrám 1 8, cementált volfrám -karbid, lila volfrámot használtak, volfrámkarbid anyag, volfrám kobalt, volfrám tulajdonságai

A szálláslekérdezés elküldése

whatsapp

Telefon

E-mailben

Vizsgálat